纳米集成电路制造工艺

纳米集成电路制造工艺（第2版） 张汝京 等 编著 清华大学出版社 北京 内容简介 本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流 程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化 学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM（Design for Manufacturing），集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控 制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。 国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用本 书作为教科书或参考资料。 本书封面贴有清华大学出版社防伪标签，无标签者不得销售。 版权所有，侵权必究。侵权举报电话：010-62782989 13701121933 图书在版编目（CIP）数据 纳米集成电路制造工艺／张汝京等编著．—2版．—北京：清华大学出 版社，2017 ISBN 978-7-302-45233-1 Ⅰ．①纳… Ⅱ．①张… Ⅲ．①纳米材料－集成电路工艺 Ⅳ． ①TN405 中国版本图书馆CIP数据核字（2016）第264025号 责任编辑 ：文 怡 王 芳 封面设计 ：李召霞 责任校对 ：白 蕾 责任印制 ：杨 艳 出版发行 ：清华大学出版社 网 址 ：http://www.tup.com.cn，http://www.wqbook.com 地 址 ：北京清华大学学研大厦A座 邮 编 ：100084 社 总 机 ：010-62770175 邮 购 ：010-62786544 投稿与读者服务 ：010-62776969，c-service@tup.tsinghua.edu.cn 质量反馈 ：010-62772015，zhiliang@tup.tsinghua.edu.cn 课件下载 ：http://www.tup.com.cn，010-62795954 印 刷 者 ：北京富博印刷有限公司 装 订 者 ：北京市密云县京文制本装订厂 经 销 ：全国新华书店 开 本 ：185mm×260mm 印 张 ：30.5 字 数 ：744千字 版 次 ：2014年7月第1版 2017年1月第2版 印 次 ：2017年1月第1次印刷 印 数 ：1～2500 产品编号：071290-01 序言 张汝京先生，于美国南方卫理公会大学（Southern Methodist University）取得电子工程博士学位。他曾在德州仪器公司工作过20 年，并管理过美国、日本、新加坡、意大利及中国台湾地区等多座半导 体工厂的相关业务，在半导体技术以及信息产业的发展规划上，张汝京 先生卓越的成就和独到的眼光得到业界公......